什么是硅片的自然氧化层?由自然氧化层引起的三种问题是什么?

题目

什么是硅片的自然氧化层?由自然氧化层引起的三种问题是什么?

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相似问题和答案

第1题:

煤气发生炉中氧化层的作用是什么?


正确答案: 氧化层又称火层,正常情况下其厚度为100—200mm,氧化层主要作用是使空气中的氧气遇碳进行剧烈的热化学反应,生产大量的二氧化碳,同时放出大量的热量,灼热碳与二氧化碳和水蒸气的还原反应所吸的热量靠此来维持。火层温度一般应保持1100—1200℃,但这要决定于原料的灰分熔点的高低。

第2题:

离子注入前一般需要先生长氧化层,其目的是什么?


正确答案:氧化层保护表面免污染,免注入损伤,控制注入温度。

第3题:

经机械加工的表面层自表向里依次为______。

A.吸附气体层→污染层→氧化层→加工硬化层→基体

B.污染层→吸附气体层→氧化层→加工硬化层

C.污染层→吸附气体层→加工硬化层→氧化层→基体

D.吸附气体层→污染层→加工硬化层→氧化层→基体


参考答案:B

第4题:

在自然堆积状况下,可将煤堆分为哪几层()

  • A、冷却层
  • B、氧化层
  • C、窒息层
  • D、绝缘层

正确答案:A,B,C

第5题:

什么是强制氧化工艺和自然氧化工艺?哪种工艺较好?


正确答案: 湿法石灰石—石膏脱硫工艺有强制氧化和自然氧化之分。被浆液吸收的二氧化硫有少部分在吸收区内被烟气中的氧气氧化,这种氧化称为自然氧化。强制氧化是向吸收塔的氧化区内喷入空气,促使可溶性亚硫酸盐氧化成硫酸盐。强制氧化工艺在脱硫效率和系统运行的可靠性等方面均比自然氧化工艺更优越。

第6题:

什么是外延层?为什么硅片上要使用外延层?


正确答案:外延层是指在硅的外延中以硅基片为籽晶生长一薄膜层,新的外延层会复制硅片的晶体结构,并且结构比原硅片更加规则。外延为器件设计者在优化器件性能方面提供了很大的灵活性,例如可以控制外延层掺杂厚度、浓度、轮廓,而这些因素与硅片衬底无关的,这种控制可以通过外延生长过程中的掺杂来实现。外延层还可以减少CMOS器件中的闩锁效应。

第7题:

静电释放带来的问题有哪些()。

  • A、金属电迁移
  • B、金属尖刺现象
  • C、芯片产生超过1A的峰值电流
  • D、栅氧化层击穿
  • E、吸引带电颗粒或极化并吸引中性颗粒到硅片表面

正确答案:C,D,E

第8题:

汽油-空气吹管的火焰由外向内分为

A、还原焰、氧化焰、燃烧焰、混合焰4层

B、混合焰、燃烧焰、氧化焰、还原焰4层

C、氧化焰、还原焰、燃烧焰、混合焰4层

D、燃烧焰、混合焰、还原焰、氧化焰4层

E、混合焰、燃烧焰、还原焰、氧化焰4层


参考答案:C

第9题:

铝合金在和空气接触时,就会自然且很快形成一层很薄且致密又坚硬的氧化膜(Al2O3)。


正确答案:正确

第10题:

金属在火灾中氧化和自然条件下的锈层有何区别?


正确答案:金属在火灾中的氧化, 其主要是氧化物, 薄厚均匀, 颜色一致、 表面平整, 锈层沉着时间短, 结合不紧密, 起层, 容易脱落。 而自然条件下的锈层中除氧化物外, 还含有盐、碱类化合物, 薄厚不均匀, 颜色不一致, 有锈斑凸起, 不平整, 锈层形成时间长, 锈层与本体结合紧密, 不起层, 不易脱落。