第1题：
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？
第2题：
什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？
第3题：
此题为判断题(对，错)。
第4题：
简述光刻工艺流程。
第5题：
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
第6题：
在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
第7题：
光学光刻中影响图像质量的两个重要参数是什么？
第8题：
B型超声诊断仪制造工艺采用（）
第9题：
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
第10题：
试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。