问答题光刻工艺包括哪些工艺？

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光刻工艺包括哪些工艺？

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第1题：

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？

正确答案: 1.光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去并得到所需图形的工艺。
2.光刻的重要性是在二氧化硅或金属薄膜上面刻蚀出与掩膜版完全对应的几何图形，从而实现选择性扩散和金属薄膜布线的目的，它是晶圆加工过程的中心，为后面的刻蚀和离子注入做准备。决定了芯片的性能，成品率，可靠性。

第2题：

光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。

正确答案:前烘；显影；去胶

第3题：

什么是工艺设计还有工艺设计都包括哪些？

工艺设计是指工艺规程和工艺装备设计的总称,是企业进行加工生产的重要组成部分.由于彩色桌面制版技术采用文图合一的整页输出,后工序再投有加工调整的余地,因此工艺设计就更显重要

1、工艺设计是指工艺规程和工艺装备设计的总称,是企业进行加工生产的重要组成部分.由于彩色桌面制版技术采用文图合一的整页输出,后工序再投有加工调整的余地,因此工艺设计就更显重要文献来源 2、一工艺设计规范及其现状我们把工艺人员进行工艺规程编制以及工艺装备设计称为工艺设计,工艺设计在产品生产中占有举足轻重的地位,而工艺设计规范是规范工艺设计的标准,是编制工艺文件的指南文献来源 3、1 工艺设计原理与方法研究进展管壳式换热器的设计包括热力设计、流动设计、结构设计以及强度设计等,而工艺设计一般是指传热(或热力)设计和压降(或流动)设计[4,6]

路过

第4题：

什么叫采煤工艺？采煤工艺包括哪些？

正确答案: （1）采煤工艺：根据采煤工作面内煤层的赋存条件，运用各种技术装备进行生产工作的技艺和方式，统称为采煤工艺。
（2）采煤工艺包括破煤、装煤、运煤、支护、采空区处理。

第5题：

简述光刻工艺流程。

正确答案:涂光刻胶→前烘→曝光→显影→坚膜→刻蚀→剥离去膜→清洗

第6题：

什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

正确答案: 光刻是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技术。
对光刻工艺质量的基本要求是：刻蚀的图形完整、尺寸准确、边缘整齐、线条陡直；图片内无小岛、不染色、腐蚀干净；图形套合十分准确；介质膜或金属膜上无针孔；硅片表面清洁、不发花、无残留的被腐蚀物质。

第7题：

光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）

正确答案:错误

第8题：

B型超声诊断仪制造工艺采用（）

A、光刻
B、声刻
C、雕刻
D、透镜

正确答案:A

第9题：

试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。

正确答案:在4次光刻中，第二次光刻有源岛和第三次光刻的源漏电极合为一次光刻，为4次光刻的第二次光刻，光刻次数减少，但工艺难度大大增大。
第二次光刻的工艺流程概括为：连续沉积薄膜→涂胶→多段式调整掩膜版曝光→显影→湿法刻蚀→干法刻蚀及灰化→再湿刻和再干法刻蚀。

第10题：

在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。

A、刻蚀
B、氧化
C、淀积
D、光刻

正确答案:D

光刻工艺包括哪些工艺？

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