解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?

题目
问答题
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?
如果没有搜索结果或未解决您的问题,请直接 联系老师 获取答案。
相似问题和答案

第1题:

解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?


正确答案:光刻胶显影是指用化学显影液溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域,其主要目的是把掩膜版图形准确复制到光刻胶中。

第2题:

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。

  • A、CA光刻胶对深紫外光吸收小
  • B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
  • C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强
  • D、有较高的光敏度
  • E、有较高的对比度

正确答案:A,B,C,D,E

第3题:

在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?


正确答案:一、将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中
二、在后续工艺中,保护下面的材料

第4题:

问答题
给出硅片制造中光刻胶的两种目的。

正确答案: 1.将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中。
2.在后续工艺中保护下面的材料。
解析: 暂无解析

第5题:

晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。

  • A、除去光刻胶中剩余的溶剂
  • B、增强光刻胶对晶片表面的附着力
  • C、提高光刻胶的抗刻蚀能力
  • D、有利于以后的去胶工序
  • E、减少光刻胶的缺陷

正确答案:A,B,C,E

第6题:

有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。

  • A、负胶受显影液的影响比较小
  • B、正胶受显影液的影响比较小
  • C、正胶的曝光区将会膨胀变形
  • D、使用负胶可以得到更高的分辨率
  • E、负胶的曝光区将会膨胀变形

正确答案:A,C,D

第7题:

例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。


正确答案:连续喷雾显影、旋覆浸没显影。
显影温度,显影时间,显影液量,硅片洗盘,当量浓度,清洗,排风。

第8题:

解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低?


正确答案:光刻胶选择比是指显影液与曝光的光刻胶反应的速度快慢,选择比越高,反应速度越快,所以要比例高。

第9题:

名词解释题
光刻胶

正确答案: 又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
解析: 暂无解析

第10题:

问答题
列出光刻胶的四种成分

正确答案: 聚合物、感光剂、溶剂和添加剂
解析: 暂无解析