扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。
第1题：
杂质半导体的导电能力受温度的影响很小。()
第2题：
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）
第3题：
第4题：
钢坯内部化学成份和杂质分布不均匀的现象叫“偏析”。
第5题：
在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新的杂质补充，这种扩散方式称为：（）
第6题：
水的导电性能与水的密度、射流形式等有关。下列说法正确的是()。
(A)杂质越少，直流射流，导电性能越大
(B)杂质越少，开花射流，导电性能越大
(C)杂质越多，直流射流，导电性能越大
(D)杂质越多，开花射流，导电性能越大
第7题：
恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为（）分布。
第8题：
第9题：
硅晶片上之所以可以产生薄膜，出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子，它们主要是通过（）到达晶片表面的。
第10题：
绝缘材料中的杂质会使电阻率下降，这是因为（）