简述正胶和负胶区别。

题目
问答题
简述正胶和负胶区别。
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相似问题和答案

第1题:

解释正性光刻和负性光刻的区别?为什么正胶是普遍使用的光刻胶?最常用的正胶是指哪些胶?


正确答案:正性光刻把与掩膜版上相同的图形复制到硅片上,负性光刻把与掩膜版上图形相反的图形复制到硅片表面,这两种基本工艺的主要区别在于所用的光刻胶的种类不同。
正刻胶在进行曝光后留下来的的光刻胶在曝光前已被硬化,它将留在硅片表面,作为后步工艺的保护层,不需要改变掩膜版的极性,并且负性光刻胶在显影时会变形和膨胀,所以正胶是普遍使用的光刻胶传统的I线光刻胶,深紫外光刻胶。

第2题:

感光胶分为正性胶和负性胶,简述它们是如何定义。


正确答案: (1)负性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是可溶的,曝光后发生光聚合反应,不溶于有机溶剂。当用它进行光刻时,在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相反的图形,故称之为负性胶。
(2)正性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是不可溶的,而曝光后却变成可溶的,使用它进行光刻时,在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相同的图形,故称之为正性胶。

第3题:

某输油管道的工作压力亦正亦负,应选择()作为连接管。

A.压力胶管

B.真空胶管

C.压力真空胶管

D.普通胶管


参考答案:C

第4题:

关于正胶和负胶的特点,下列说法正确的是()。

  • A、正胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率高于负胶
  • B、正胶的感光区域在显影时不溶解,负胶的感光区域在显影时溶解
  • C、负胶在显影时不会发生膨胀,因此分辨率不会降低
  • D、正胶的感光区域在显影时溶解,负胶的感光区域在显影时不溶解
  • E、负胶在显影时会发生膨胀,导致了分辨率的降低

正确答案:A,C,E

第5题:

击球旋转变化大的拍为:()

  • A、正胶
  • B、长胶
  • C、正胶海绵
  • D、以上答案都不对

正确答案:B

第6题:

有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。

  • A、负胶受显影液的影响比较小
  • B、正胶受显影液的影响比较小
  • C、正胶的曝光区将会膨胀变形
  • D、使用负胶可以得到更高的分辨率
  • E、负胶的曝光区将会膨胀变形

正确答案:A,C,D

第7题:

简述银点胶和边框胶的作用。


正确答案:边框胶是为了使TFT基板和CF基板紧密粘合。银点胶用于连接TFT基板和CF基板的共用电极(COM电极),使CF基板上的ITO电极导通。

第8题:

某输油管道的工作压力亦正亦负,应选择()作为连接管。

  • A、压力胶管
  • B、真空胶管
  • C、压力真空胶管
  • D、普通胶管

正确答案:C

第9题:

关于正胶和负胶在显影时的特点,下列说法正确的是()。

  • A、负胶的感光区域溶解
  • B、正胶的感光区域溶解
  • C、负胶的感光区域不溶解
  • D、正胶的感光区域不溶解
  • E、负胶的非感光区域溶解

正确答案:B,C,E

第10题:

用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶()。

  • A、ARC
  • B、HMDS
  • C、正胶
  • D、负胶

正确答案:C