光刻的图形曝光方式有:接触式曝光、接近式曝光和()曝光。

题目
填空题
光刻的图形曝光方式有:接触式曝光、接近式曝光和()曝光。
参考答案和解析
正确答案: 投影式
解析: 暂无解析
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第1题:

将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。

  • A、接触
  • B、接近式
  • C、投影

正确答案:A

第2题:

按曝光的光源分类,曝光可以分为()。

  • A、光学曝光
  • B、离子束曝光
  • C、接近式曝光
  • D、电子束曝光
  • E、投影式曝光

正确答案:A,B,D

第3题:

所谓傻瓜相机使用的曝光模式是( )

A.光圈优先式自动曝光
B.快门优先式自动曝光
C.程序式自动曝光
D.手动曝光

答案:C
解析:

第4题:

X线电影摄影装置的曝光方式不包括()

  • A、连续式
  • B、间断式
  • C、同步脉冲曝光方式
  • D、曝光量自动控制式
  • E、双向交替曝光方式

正确答案:B

第5题:

光刻加工的工艺过程为()

  • A、①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗
  • B、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散
  • C、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

正确答案:B

第6题:

下列有关曝光系统的说法正确的是()。

  • A、投影式同接触式相比,掩模版的利用率比较高
  • B、接触式的分辨率优于接近式
  • C、接近式的分辨率受到衍射的影响
  • D、投影式曝光系统中不会产生衍射现象
  • E、投影式曝光是目前采用的主要曝光系统

正确答案:A,B,C,E

第7题:

照相机的图标式自动曝光是一种()。

  • A、专业曝光
  • B、手控曝光
  • C、程序曝光
  • D、特殊曝光

正确答案:C

第8题:

根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?


正确答案: 根据曝光方式不同光学光刻机主要分为三种:接触式,接近式,投影式。接触式:接触式光刻机是最简单的光刻机,曝光时,掩模压在涂有光刻胶的晶圆片上。主要优点:设备简单,分辨率高,没有衍射效应主要缺点:掩模版与涂有光刻胶的晶圆片直接接触,每次接触都会在晶圆片和掩模版上产生缺陷,降低掩模版使用寿命,成品率低,不适合大规模生产。接触式光刻机一般仅限用于能容忍较高缺陷水平的器件研究或其他方面的应用。接近式:接近式光刻机是掩模版同光刻胶间隔10~50μm,所以缺陷大大减少。主要优点:避免晶圆片与掩模直接接触,缺陷少。主要缺点:分辨率下降,存在衍射效应。
投影式:现今硅片光学曝光最主要的方法是投影式曝光。一般光学系统将光刻版上的图像缩小4x或5x倍,聚焦并与硅片上已有的图形对准后曝光,每次曝光一小部分,曝完一个图形后,硅片移动到下一个曝光位置继续对准曝光。主要优点:有接触式的分辨率,但不产生缺陷常用投影光刻机系统的类型有扫描光刻机、分步重复光刻机和扫描分步重复光刻机等。

第9题:

DEP是()优先式自动曝光模式。

  • A、景深
  • B、速度
  • C、包围式曝光

正确答案:A

第10题:

光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是()

  • A、电子束曝光技术
  • B、离子束曝光技术
  • C、X射线曝光技术

正确答案:B