干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最主要方法,湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下刻蚀器件,例如大于3微米。

题目
判断题
干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最主要方法,湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下刻蚀器件,例如大于3微米。
A

B

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第1题:

钢中大型夹杂物的尺寸()

  • A、大于50微米
  • B、大于100微米
  • C、大于150微米
  • D、100-150微米

正确答案:A

第2题:

钢中大型夹杂物尺寸()。

  • A、大于50微米
  • B、大于100微米
  • C、大于150微米

正确答案:B

第3题:

钢中大型夹杂物的尺寸( )。

A.大于50微米

B.大于100微米

C.大于150微米

D.100-150微米


正确答案:C

第4题:

由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的,所以其()就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。

  • A、刻蚀速率
  • B、选择性
  • C、各向同性
  • D、各向异性

正确答案:B

第5题:

超精密加工包括了所有能使零件成形、位置和尺寸精度到微米和亚微米范围的机械加工方法。


正确答案:正确

第6题:

钢中的大型夹杂物是指尺寸()的夹杂物

  • A、大于10微米;
  • B、大于100微米;
  • C、大于200微米
  • D、大于250微米

正确答案:B

第7题:

钢中大型夹杂物的尺寸是指()。

  • A、大于50微米
  • B、大于100微米
  • C、大于150微米
  • D、小于50微米

正确答案:B

第8题:

干法刻蚀的目的是什么?例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么?


正确答案:干法刻蚀的主要目的是完整地把掩膜图形复制到硅片表面上。
干法刻蚀的优点:
1.刻蚀剖面是各向异性,具有非常好的侧壁剖面控制
2.好的CD控制
3.最小的光刻胶脱落或粘附问题
4.好的片内、片间、批次间的刻蚀均匀性
5.较低的化学制品使用和处理费用
缺点:对层材料的差的刻蚀选择比、等离子体带来的器件损伤和昂贵的设备

第9题:

微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。

  • A、干法刻蚀、湿法刻蚀
  • B、离子束刻蚀、激光刻蚀
  • C、溅射加工、直写加工
  • D、以上都可以

正确答案:A

第10题:

单选题
微细加工技术中的刻蚀工艺可分为下列哪两种()。
A

a.离子束刻蚀、激光刻蚀

B

b.干法刻蚀、湿法刻蚀

C

c.溅射加工、直写加工


正确答案: A
解析: 暂无解析