第1题：
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
第2题：
述5次光刻中第5次像素电极光刻形成的ITO的作用。
第3题：
光学光刻中影响图像质量的两个重要参数是什么？
第4题：
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
第5题：
简述7次光刻的第二次光刻中O2灰化的作用。
第6题：
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
第7题：
试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。
第8题：
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
第9题：
光刻
第10题：
晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。