显影时,正胶和负胶的哪个区发生溶解?而哪个区则不会溶解。

题目
问答题
显影时,正胶和负胶的哪个区发生溶解?而哪个区则不会溶解。
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相似问题和答案

第1题:

光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶。()


正确答案:正确

第2题:

解释正性光刻和负性光刻的区别?为什么正胶是普遍使用的光刻胶?最常用的正胶是指哪些胶?


正确答案:正性光刻把与掩膜版上相同的图形复制到硅片上,负性光刻把与掩膜版上图形相反的图形复制到硅片表面,这两种基本工艺的主要区别在于所用的光刻胶的种类不同。
正刻胶在进行曝光后留下来的的光刻胶在曝光前已被硬化,它将留在硅片表面,作为后步工艺的保护层,不需要改变掩膜版的极性,并且负性光刻胶在显影时会变形和膨胀,所以正胶是普遍使用的光刻胶传统的I线光刻胶,深紫外光刻胶。

第3题:

滴制法制备胶丸时,下列哪个因素不会影响其制备胶丸质量

A、胶液的处方组分比

B、胶液的黏度

C、温度

D、药液、胶液及冷却液的密度

E、胶丸的重量


参考答案:E

第4题:

奥氏体钢中的含碳量为0.02~0.03%时则全部碳溶解在奥氏体中,即使加热450~850℃也不会形成贫铬区,故不会产生晶间腐蚀。


正确答案:正确

第5题:

感光胶分为正性胶和负性胶,简述它们是如何定义。


正确答案: (1)负性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是可溶的,曝光后发生光聚合反应,不溶于有机溶剂。当用它进行光刻时,在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相反的图形,故称之为负性胶。
(2)正性胶这种胶在曝光前对某些有机溶剂是不可溶的,而曝光后却变成可溶的,使用它进行光刻时,在衬底表面将得到与光刻掩模版遮光图案完全相同的图形,故称之为正性胶。

第6题:

奥氏体不锈钢的含碳量为0.02~0.03%时,则全部碳溶解在奥氏体中,即使加热至450~850℃时,也不会形成贫铬区,故不会产生晶间腐蚀。


正确答案:正确

第7题:

有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。

  • A、负胶受显影液的影响比较小
  • B、正胶受显影液的影响比较小
  • C、正胶的曝光区将会膨胀变形
  • D、使用负胶可以得到更高的分辨率
  • E、负胶的曝光区将会膨胀变形

正确答案:A,C,D

第8题:

制备阿胶时加入冰糖的目的是

A.调整胶剂的韧性

B.沉淀胶液中的泥土杂质

C.增加胶剂的透明度和硬度

D.降低黏性,便于切制

E.增加胶剂的溶解度


正确答案:C

第9题:

使用打孔接装纸时要求生产的烟支接装纸无胶区不会被()。


正确答案:堵塞

第10题:

移动台在通话状态时HLR和MSC分别知道移动台在哪个区域?()

  • A、HLR知道MS在哪个MSC服务区,而MSC知道MS在哪个位置区域(LAI)
  • B、HLR知道MS在哪个MSC服务区,而MSC知道MS在哪个BSC服务区
  • C、HLR知道MS在哪个BSC服务区,而MSC知道MS在哪个位置区域
  • D、HLR知道MS在哪个MSC服务区,而MSC知道MS在哪个小区(CGI)

正确答案:D