第1题:
什么叫光刻?光刻工艺质量的基本要求是什么?
第2题:
例出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。
第3题:
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?
第4题:
第5题:
试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。
第6题:
光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。
第7题:
简述光刻工艺流程。
第8题:
化工机械分为哪两部分?他们的安装、修理工艺程序大致分为哪些步骤?
第9题:
试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。
第10题:
问答题什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。
问答题简述光刻工艺的8个基本步骤。
判断题在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。A 对B 错
问答题光刻工艺的主要流程有哪几步?什么是光刻工艺的分辨率?从物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?
问答题光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤?
问答题光刻的步骤是哪些?
问答题PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻,每次光刻目的是什么?
问答题光刻工艺包括哪些工艺?
问答题为什么说光刻是IC制造中最重要的工艺?光刻的三个要素是什么?
填空题光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和(),两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同,前者是(),后者是()。