第1题：
将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。
第2题：
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
第3题：
第4题：
下列关于实物投影器的说法，正确的说法是（）
第5题：
子又安从授之而掩其上哉。“掩其上”在句中是什么意思？
第6题：
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
第7题：
光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）
第8题：
用于制作透析膜的材料所应具有的特点是什么？
第9题：
在进行空间分析时，经常设置Mask（掩膜），设置掩膜的作用是什么？
第10题：
第三角投影中，把投影面看作是（）。