超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。A、高分辨率B、高灵敏度C、精密的套刻对准D、大尺寸E、低缺陷

题目

超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

A、高分辨率
B、高灵敏度
C、精密的套刻对准
D、大尺寸
E、低缺陷

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第1题：

用游标卡尺测量时,尺寸的整数部分是()。

A、副尺“0”线对应主尺左边第一条刻线尺寸

B、副尺“0”线对应主尺右边第一条刻线尺寸

C、主尺、副尺对准刻线主尺左边尺寸

D、主尺、副尺对准刻线主尺右边尺寸

参考答案：A

第2题：

LIGA (光刻)工艺制造微电子芯片属于精密特种加工。()

此题为判断题(对，错)。

答案：是

第3题：

对生物样品检测方法的要求，下面哪种说法是正确的

A、高灵敏度、高精密度

B、高专属性、高灵敏度

C、高准确度、高专属性

D、高稳定性、高准确度

E、高专属性、高精密度

参考答案：B

第4题：

解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？

正确答案:光刻胶选择比是指显影液与曝光的光刻胶反应的速度快慢，选择比越高，反应速度越快，所以要比例高。

第5题：

闸板防喷器封闭不严的应检查（）。

A、闸板前端是否有硬东西卡住
B、两块闸板尺寸是否与所封钻具（管柱）尺寸一致
C、花键套、滑套是否卡死
D、两闸板封闭处钻具有无缺陷（如不圆）
E、胶芯是否老化
F、检控压力是否低

正确答案:A,B,C,D,E,F

第6题：

尺寸公差的要求()。

A.做到绝对准确的要求的尺寸

B.要求的尺寸允许变化的范围。

C.只要得到的实际尺寸，在允许的变化范围内

D.尺寸是合格的、能满足使用要求的

参考答案：BCD

第7题：

B型超声诊断仪制造工艺采用（）

A、光刻
B、声刻
C、雕刻
D、透镜

正确答案:A

第8题：

下列切削加工中属于超精密加工的是( )。

A.金刚石超精密车削

B.光刻加工

C.超声研磨

D.激光加工

参考答案ABC

第9题：

什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？

正确答案: 光刻是一种图形复印和化学腐蚀相结合的精密表面加工技术。
对光刻工艺质量的基本要求是：刻蚀的图形完整、尺寸准确、边缘整齐、线条陡直；图片内无小岛、不染色、腐蚀干净；图形套合十分准确；介质膜或金属膜上无针孔；硅片表面清洁、不发花、无残留的被腐蚀物质。

第10题：

光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）

正确答案:错误

超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。A、高分辨率B、高灵敏度C、精密的套刻对准D、大尺寸E、低缺陷

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