测量滞后一般由测量元件特性引起，克服测量滞后的办法是在调节规律中增加积分环节。
第1题：
双容对象特性与单容对象特性相比增加了()。
A、纯滞后
B、传送滞后
C、测量滞后
D、容量滞后
第2题：
化工测量过程中测量参数（）测量易引起纯滞后。
第3题：
A.克服调节对象的惯性滞后(时间常数T)、容量滞后τC和纯滞后τo
B.克服调节对象的纯滞后τo
C.克服调节对象的惯性滞后(时间常数T)、容量滞后τc
D克服调节对象的惯性滞后(时间常数T)
第4题：
测量设备计量特性的：（）。
第5题：
（）存在纯滞后，但不会影响调节品质。
第6题：
由于微分调节规律有超前作用，因此调节器加入微分作用主要是用来（）
第7题：
由于微分调节规律有超前作用，因此调节器加入微分作用主要是用来（）
第8题：
A、测量元件安装位置不当
B、测量变送单位本身存在滞后
C、测量信号的传递滞后
D、以上都不对
第9题：
（）是根据偏差的变化趋势（变化速度）而动作的，它主要用来克服容易滞后的对象。
第10题：
串级调节系统主要用于改善（）较大的对象，具有超前控制作用。