JB/T4730.4-2005标准规定:缺陷磁痕的观察应在磁痕形成后立即进行。
第1题:
JB/T4730.4-2005标准规定:两条或两条以上缺陷磁痕在同一直线上且间距不大于2mm时,按一条磁痕处理,其长度为两条磁痕之和加间距。
第2题:
JB/T4730.4-2005标准规定:当辩认细小缺陷磁痕时应用2~10倍放大镜进行观察。
第3题:
JB/T4730标准规定,缺陷磁痕的显示记录可采用()、录像和可剥性塑料薄膜等方式记录。
第4题:
JB/T4730.4-2005标准规定:缺陷磁痕显示的记录可采用照相、录像和可剥性塑料薄膜等方式记录,同时应用草图标示。
第5题:
JB/T4730—2005标准关于缺陷磁痕的观察有哪些要求?
第6题:
按JB4248-86标准,凡缺陷磁痕尺寸小于1.5mm和发纹可()、()
第7题:
JB/T4730.4-2005标准对缺陷磁痕显示记录是如何要求的?
第8题:
缺陷磁痕的观察应在磁痕形成后立即进行。
第9题:
JB/T4730.4-2005标准规定:长宽比大于3的缺陷磁痕,按线性缺陷处理,长宽比小于3的缺陷磁痕,按圆形缺陷处理。
第10题:
JB/T4730.4-2005标准对磁痕显示的分类是按磁痕的产生原因、形状和方向进行的,没有涉及缺陷的定性。