列出并描述两种主要的光刻胶。

题目
问答题
列出并描述两种主要的光刻胶。
参考答案和解析
正确答案: 负性光刻胶和正性光刻胶。负性光刻胶是负相的掩膜图形形成在光刻胶上、正相掩膜图形出现在光刻胶上。
解析: 暂无解析
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相似问题和答案

第1题:

解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么?


正确答案:光刻胶显影是指用化学显影液溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域,其主要目的是把掩膜版图形准确复制到光刻胶中。

第2题:

例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。


正确答案:连续喷雾显影、旋覆浸没显影。
显影温度,显影时间,显影液量,硅片洗盘,当量浓度,清洗,排风。

第3题:

在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?


正确答案:一、将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中
二、在后续工艺中,保护下面的材料

第4题:

列出原始社会陶器的主要类型,并简述其造型的主要特色?


正确答案: 原始社会的陶器造型,是以适用为主要目的与工艺技术水平的不断变化相适应的。最早的造型,简单而又稚朴,随着技艺的提高,陶器造型的式样也逐渐繁复起来。古籍中对不同形状,不同用途的陶器,有不同的称谓,如用作汲水或盛装的有角、壶、缶、盂等;用作烹食的有鼎、甑、釜、等;用作贮藏器的有瓮、坛、罐、尊等;用作洗涤的有洗、盆、等,这些虽然是直接为日常生活用品,但我们的祖先在造型设计和制作时,很注意造型的审美功能。
能够灵活掌握各种线条的曲直变化,善于运用空间、虚实、疏密、繁简、强弱、质地和
色彩等对比手法,就是器物上的某些附加物如耳、流口、足的处理,也能恰到好处地起到对称,均衡与稳定作用,原始社会的陶器造型,不但为随之出现的青铜器的造型所沿用,而且为日后大量出现的陶瓷器的造型所继承和发展。

第5题:

列出三种常用的水加热器和两种主要附件。


正确答案: 水加热器有容积式.半容积式.快速式.半即热式等
主要附件有:自动温度调节器.自动排气阀.膨胀管(水箱.罐).伸缩器.疏水器等

第6题:

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。

  • A、CA光刻胶对深紫外光吸收小
  • B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化
  • C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强
  • D、有较高的光敏度
  • E、有较高的对比度

正确答案:A,B,C,D,E

第7题:

晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。

  • A、除去光刻胶中剩余的溶剂
  • B、增强光刻胶对晶片表面的附着力
  • C、提高光刻胶的抗刻蚀能力
  • D、有利于以后的去胶工序
  • E、减少光刻胶的缺陷

正确答案:A,B,C,E

第8题:

光刻胶主要由()等不同材料混合而成的。

  • A、树脂
  • B、感光剂
  • C、HMDS
  • D、溶剂
  • E、PMMA

正确答案:A,B,D

第9题:

简述UML,列出其主要图形,并讨论它们的主要用途。


正确答案: UML是一种用来对系统开发的产出进行可视化、规范定义、构造和文档化的面向对象的建模语言。UML是用来描述模型的,用模型来描述系统的结构或静态特征,以及行为或动态特征。
UML定义的图分为3类,即用例图、静态结构图和动态行为图。
(1)用例图,即UseCase图。
(2)静态结构图,包括对象类图、对象图、组件图和配置图。
(3)动态行为图,包括交互顺序图、交互协作图、状态图和活动图。

第10题:

列出TD-LTE下行链路的开销,并描述其所在时频资源的位置。


正确答案: 1、控制区域(每个子帧前1/2/3个符号)
2、CRS(均匀分布在时频资源上,可画图)
3、PSS(DWPTS第三个符号,频带中间72个子载波)
4、SSS(第一个子帧最后一个符号,频带中间72个子载波)
5、PBCH(第一个子帧第二个时隙前4个符号,频带中间72个子载波)