()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。A、溅射率B、溅射系数C、溅射效率D、溅射比

题目

()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

  • A、溅射率
  • B、溅射系数
  • C、溅射效率
  • D、溅射比
参考答案和解析
正确答案:A
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第1题:

溅射法是由()轰击靶材表面,使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。

  • A、电子
  • B、中性粒子
  • C、带能离子

正确答案:C

第2题:

从电极的结构看,溅射的方法包括()。

  • A、直流溅射
  • B、交流溅射
  • C、二级溅射
  • D、三级溅射
  • E、四级溅射

正确答案:C,D,E

第3题:

离子束加工包括( )。

A.离子束溅射去除加工

B.离子束溅射镀膜

C.离子束溅射注入

D.离子束焊接


参考答案:ABC

第4题:

简述蒸镀与溅射的区别


正确答案: 蒸镀:让材料加热气化(发射出粒子),再沉积到基片上成膜。
溅射:用离子轰击,将靶材原子打出来,再沉积到基片上成膜。

第5题:

什么叫溅射合成法?溅射合成法有哪些应用?


正确答案:溅射技术广泛引用于制备多晶质和无定型薄膜,也可以在适当条件下制备单晶薄膜。按是否发生化学反应来划分,溅射技术可以分为阴极溅射、反应溅射、吸气溅射三种。
应用:钡铁氧体薄膜的溅射合成
PTC电子陶瓷薄膜的溅射合成
二氧化锡气敏薄膜的溅射合成。

第6题:

溅射的方法非常多其中包括()。

  • A、直流溅射
  • B、交流溅射
  • C、反应溅射
  • D、二级溅射
  • E、三级溅射

正确答案:A,B,C,D,E

第7题:

简述溅射成膜的原理,并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。


正确答案:在一定真空条件下,通过外加电、磁场的作用将惰性气体电离,用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积在基板表面的过程。被轰击的物体是用溅射薄膜的源材料组成的固体称为靶材。
栅金属材料有工艺稳定性好的铬Cr、钼Mo、钽Ta等;源漏材料有钼/铝/钼Mo/Al/Mo、钼氮/铝镍/钼氮MoNx/AlNi/MoNx、钼/铝钕/钼Mo/AlNd/Mo等三层材料;像素电极ITO薄膜材料都采用溅射方法成膜。

第8题:

开启阀门应侧身操作,以免酸液溅射伤人。


正确答案:正确

第9题:

简述常见的溅射镀膜方法


正确答案: (1)辉光放电直流溅射
(2)射频溅射
(3)磁控溅射

第10题:

简述溅射镀膜的特征


正确答案: (1)溅射出来的粒子角分布取决于入射粒子的方向.
(2)从单晶靶溅射出来的粒子显示择优取向.
(3)溅射率不仅取决于入射粒子的能量,也取决于入射粒子的质量.
(4)溅射出来的粒子平均速率比热蒸发的粒子平均速率高得多.