()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。A、LPCVDB、PECVDC、CVDD、PVD

题目

()是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。

  • A、LPCVD
  • B、PECVD
  • C、CVD
  • D、PVD
参考答案和解析
正确答案:D
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第1题:

PVD与CVD相比,沉积温度()

  • A、相同
  • B、低
  • C、高
  • D、有时高有时低

正确答案:B

第2题:

()主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。

  • A、PVD
  • B、CVD
  • C、溅射
  • D、蒸发

正确答案:B

第3题:

面向对象技术与数据库技术相结合的途径主要有两种:一种途径是以( )为基础进行扩展:另一种途径是以( )和( )为基础进行扩展的方法。


正确答案:面向对象程序设计语言  传统的关系数据库  SQL语言
面向对象程序设计语言  传统的关系数据库  SQL语言

第4题:

CKD的主要结局有:()

  • A、ESRD
  • B、SHPT
  • C、CVD
  • D、死亡

正确答案:A,B,C,D

第5题:

下面哪一种薄膜工艺中底材会被消耗()。

  • A、薄膜沉积
  • B、薄膜成长
  • C、蒸发
  • D、溅射

正确答案:B

第6题:

()是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。

  • A、蒸镀
  • B、离子注入
  • C、溅射
  • D、沉积

正确答案:C

第7题:

化学气相沉积的英文名称的缩写为()。

  • A、LVD
  • B、PED
  • C、CVD
  • D、PVD

正确答案:C

第8题:

刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被()覆盖及保护的部分,以化学作用或是物理作用的方式加以去除,以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。

  • A、二氧化硅
  • B、氮化硅
  • C、光刻胶
  • D、去离子水

正确答案:C

第9题:

简述PECVD薄膜沉积的原理。


正确答案:薄膜的沉积原理包括三个基本的过程:
1)等离子体反应,是指等离子体通过与具有能量的电子、离子或者基团等粒子碰撞,使通入到反应室中的气体分子分解的过程。其中等离子体包括自由基、原子和分子等中性粒子,以及离子和电子等非中性粒子。
2)输送粒子到基板表面,等离子体产生的粒子以扩散方式或离子加速的形式输运到基板表面。中性粒子受浓度梯度的驱动以扩散方式输运到基板表面,阳离子受等离子和基板间的电位差驱动而离子加速运动到基板表面。
3)在表面发生反应,当粒子达到基板表面时,通过一系列吸附、迁移、反应,以及中间产物的解吸附过程形成要沉积的薄膜。衬底温度对每一步都是致关重要的。

第10题:

高速钢表面涂层工艺与硬质合金表面涂层技术类同,有()两种。

  • A、高温烧结和高温高压烧结
  • B、化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)
  • C、热压法(HP)和热等静压法(HIP)
  • D、电镀法和电铸法

正确答案:B