用g线和i线进行曝光时通常使用哪种光刻胶（）。
第1题：
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
第2题：
在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
第3题：
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）
第4题：
晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。
第5题：
感光胶分为正性胶和负性胶，简述它们是如何定义。
第6题：
有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
第7题：
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
第8题：
解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？
第9题：
关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。
第10题：
关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。