线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标,目前芯片制造的主流技术中

题目

线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标,目前芯片制造的主流技术中线宽为()。

  • A、几个微米
  • B、几个纳米
  • C、50纳米左右
  • D、100纳米左右
如果没有搜索结果或未解决您的问题,请直接 联系老师 获取答案。
相似问题和答案

第1题:

目前RAM多采用MOS型半导体集成电路芯片制成,PC机中使用的RAM除DRAM芯片外,还使用【 】芯片。


正确答案:SRAM芯片(或Static RAM或静态随机存取存储器或静态随机访问存储器)
SRAM芯片(或Static RAM,或静态随机存取存储器,或静态随机访问存储器)

第2题:

微电子技术特别是集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路的叙述中错误的是()。

A.集成电路的集成度指的是单个集成电路所含电子元件(如晶体管、电阻、电容等)的数目多少

B.根据集成度的高低,集成电路可以分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等几种

C.嵌入式系统中使用的处理器芯片属于大规模集成电路

D.集成电路的制造工艺复杂且技术难度非常高,许多工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成


正确答案:C

第3题:

目前RAM多采用MOS型半导体集成电路芯片制成,PC中使用的RAM除DRAM芯片外,还使用 芯片。


正确答案:

 SRAM

第4题:

简述在芯片制造中对金属电极材料有什么要求?


正确答案: 1、能很好的阻挡材料扩散;
2、高电导率,低欧姆接触电阻;
3、在半导体和金属之间有很好的附着能力;
4、抗电迁能力强;
5、在很薄和高温下具有很好的稳定性;
6、抗侵蚀和抗氧化性好。
7、具有高的导电率和纯度。
8、与下层存底(通常是二氧化硅或氮化硅)具有良好的粘附性。
9、与半导体材料连接时接触电阻低。
10、能够淀积出均匀而且没有“空洞”的薄膜,易于填充通孔。
11、易于光刻和刻蚀,容易制备出精细图形。
12、很好的耐腐蚀性。
13、在处理和应用过程中具有长期的稳定性。

第5题:

简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?


正确答案: 1.光刻是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去并得到所需图形的工艺。
2.光刻的重要性是在二氧化硅或金属薄膜上面刻蚀出与掩膜版完全对应的几何图形,从而实现选择性扩散和金属薄膜布线的目的,它是晶圆加工过程的中心,为后面的刻蚀和离子注入做准备。决定了芯片的性能,成品率,可靠性。

第6题:

嵌入式系统使用的片上系统英文缩写名为SoC,下面关于SoC叙述中错误的是()。

A.SoC也称为系统级芯片,它是电子设计自动化水平的提高和集成电路制造技术飞速发展的产物

B.SoC芯片中既包含数字电路,也可以包含模拟电路,甚至还能包含数字/模拟混合电路和射频电路

C.SoC将嵌入式系统的几乎全部功能都集成在一块芯片中,单个芯片就能实现数据的采集、转换、存储、处理和I/O等多种功能

D.SoC的设计制造难度很大,目前还没有得到广泛使用


正确答案:D

第7题:

芯片是半导体元件产品的统称,又称为微电路、集成电路等,它是一个国家科技发展水平最真实也最前沿的体现。关于我国芯片技术现状,下列说法正确的是:

A.只要持续加大研发投入,我国就能在短时间内掌握芯片的核心技术
B.目前我国的光芯片已全部实现国产,仅部分电芯片依赖进口。华为是核心电子元器件自主率最高的中国企业,当然,它也有大量的电子元器件需要进口
C.光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,近年来我国在该领域取得一些技术突破,但仍未掌握制造高端光刻机的核心技术
D.我国现已掌握芯片的核心技术,只是目前仅限于军用,只要做好该项技术的军转民,我国民用芯片技术就能达到世界领先水平

答案:C
解析:
第一步,本题考查我国芯片技术现状。
第二步,光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,根据采用不同技术路线可分为高端、中端和低端。近年来我国在中低端领域已取得一些技术突破,比如位于我国上海的微电子装备公司SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列,初步实现海内外销售。但是,高端光刻机制造技术难度极大,全世界只有少数几家公司(主要是荷兰、日本的品牌)能够制造,中国不在其列。由此可知,C选项正确。
因此,选择C选项。

第8题:

在工业生产中,CPU主要采用()来制造。A.电子管B.大规模集成电路C.超大规模集成电路D.数字芯片

在工业生产中,CPU主要采用()来制造。

A.电子管

B.大规模集成电路

C.超大规模集成电路

D.数字芯片


正确答案:C

第9题:

为什么说洁净技术是半导体芯片制造过程中的一项重要技术?


正确答案: 半导体芯片制造,尤其是随着高度集成复杂电路和微波器件的发展,要求获得细线条、高精度、大面积的图形,各种形式的污染都将严重影响半导体芯片成品率和可靠性。生产中的污染,除了由于化学试剂不纯、气体纯化不良、去离子质量不佳引入之外,环境中的尘埃、杂质及有害气体、工作人员、设备、工具、日用杂品等引入的尘埃、毛发、皮屑、油脂、手汗、烟雾等都是重要汚染来源。例如,PN结表面污染上尘埃、皮屑、油脂等将引起反向漏电或表面沟道,手汗引起的Na离子沾污会使MOS器件阈值电压飘移,甚至导致晶体管电流放大系数不稳定,空气中尘埃的沾污将引起器件性能下降,以致失效;光刻涂胶后尘埃的沾污将使二氧化硅层形成针孔或小岛;大颗粒尘埃附着在光刻胶表面,会使掩膜版与芯片间距不一致,使光刻图形模糊;高温扩散过程中,附着在硅片上的尘埃将引起局部掺杂和快速扩散,使结特性变坏。所以洁净技术是半导体芯片制造过程中的一项重要技术。

第10题:

目前制造白光LED的主流技术是()。

  • A、近紫外LED芯片+RGB荧光粉
  • B、RGB三基色合成白光
  • C、蓝光LED芯片+YAG荧光粉
  • D、蓝光LED芯片+黄光LED芯片

正确答案:C

更多相关问题