主要包括非法复制和非法进行商业利用
包括非法复制，不包括非法进行商业利用
不包括非法复制，包括非法进行商业利用
非法复制和非法进行商业利用都不包括
第1题：
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。( )
第2题：
在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时，不知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的行为是（）。
A.侵权行为
B.不视为侵权行为
C.违法行为
D.犯罪行为
第3题：
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）
A.布图设计专有权的取得方式是登记
B.布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算
C.对布图设计专有权可以适用强制许可
D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权
E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
第4题：
第5题：
第6题：
对于集成电路布图设计，美国称之为（）。
A.布图设计
B.掩模作品
C.拓扑图
D.电路布图
第7题：
根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的?
A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念
D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
第8题：
关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。
A.该布图设计必须投入商业实施
B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C.布图设计应具有独创性
D.受保护的布图设计必须办理登记手续
第9题：
第10题：