溅射镀膜

题目
名词解释题
溅射镀膜
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第1题:

一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

  • A、产生一个离子并导向靶
  • B、被轰击的原子向硅晶片运动
  • C、离子把靶上的原子轰出来
  • D、经过加速电场加速
  • E、原子在硅晶片表面凝结

正确答案:A,B,C,E

第2题:

溅射的方法非常多其中包括()。

  • A、直流溅射
  • B、交流溅射
  • C、反应溅射
  • D、二级溅射
  • E、三级溅射

正确答案:A,B,C,D,E

第3题:

离子束加工包括( )。

A.离子束溅射去除加工

B.离子束溅射镀膜

C.离子束溅射注入

D.离子束焊接


参考答案:ABC

第4题:

什么叫溅射合成法?溅射合成法有哪些应用?


正确答案:溅射技术广泛引用于制备多晶质和无定型薄膜,也可以在适当条件下制备单晶薄膜。按是否发生化学反应来划分,溅射技术可以分为阴极溅射、反应溅射、吸气溅射三种。
应用:钡铁氧体薄膜的溅射合成
PTC电子陶瓷薄膜的溅射合成
二氧化锡气敏薄膜的溅射合成。

第5题:

简述溅射成膜的原理,并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。


正确答案:在一定真空条件下,通过外加电、磁场的作用将惰性气体电离,用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积在基板表面的过程。被轰击的物体是用溅射薄膜的源材料组成的固体称为靶材。
栅金属材料有工艺稳定性好的铬Cr、钼Mo、钽Ta等;源漏材料有钼/铝/钼Mo/Al/Mo、钼氮/铝镍/钼氮MoNx/AlNi/MoNx、钼/铝钕/钼Mo/AlNd/Mo等三层材料;像素电极ITO薄膜材料都采用溅射方法成膜。

第6题:

()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

  • A、溅射率
  • B、溅射系数
  • C、溅射效率
  • D、溅射比

正确答案:A

第7题:

从电极的结构看,溅射的方法包括()。

  • A、直流溅射
  • B、交流溅射
  • C、二级溅射
  • D、三级溅射
  • E、四级溅射

正确答案:C,D,E

第8题:

当玻璃幕墙采用热反射镀膜玻璃时允许使用下列哪一组?Ⅰ.在线热喷涂镀膜玻璃;Ⅱ.化学凝胶镀膜玻璃;Ⅲ.真空蒸着镀膜玻璃;Ⅳ.真空磁控阴极溅射镀膜玻璃( )

A.Ⅰ、Ⅱ
B.Ⅰ、Ⅲ
C.Ⅰ、Ⅳ
D.Ⅲ、Ⅳ

答案:C
解析:
《玻璃幕墙工程技术规范》规定:3.4.2玻璃幕墙采用阳光控制镀膜玻璃时,离线法生产的镀膜玻璃应采用真空磁控阴极溅射法生产工艺;在线法生产的镀膜玻璃应采用热喷涂法生产工艺。

第9题:

不属于磁控溅射隐透型光学显示薄膜技术的特点有()

  • A、薄膜与基底的结合力强
  • B、液晶分子列状排列
  • C、镀膜均匀,可镀大面积薄膜
  • D、透明性与玻璃接近

正确答案:B

第10题:

镜片表面镀加硬膜层时,镜片从涂膜液中提取后下一步进行()。

  • A、正离子轰击溅射镀膜
  • B、冷却
  • C、在100℃左右的烘箱中聚合4~5小时
  • D、进行凝胶化处理

正确答案:C