（）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。
第1题：
铜与氯形成的化合物挥发能力不好，因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行，而必须施以（）。
第2题：
（）是使料液在蒸发时形成薄膜，增加液化表面进行蒸发的方法。
第3题：
利用高速旋转的转子，将药液刮布成均匀薄膜而进行蒸发，适用于易结垢料液
A.升膜式蒸发器
B.降膜式蒸发器
C.刮板式薄膜蒸发器
D.离心式薄膜蒸发器
E.管式蒸发器
第4题：
下面哪一种薄膜工艺中底材会被消耗（）。
第5题：
（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。
第6题：
薄膜蒸发常用方法是（）
第7题：
（）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。
第8题：
第9题：
（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。
第10题：
简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。