署名权
发表权
复制权
保护作品完整权
商业利用权
第1题：
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）
A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权
B.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。
D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
第2题：
根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的?
A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念
D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
第3题：
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）
A.布图设计专有权的取得方式是登记
B.布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算
C.对布图设计专有权可以适用强制许可
D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权
E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
第4题：
第5题：
第6题：
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。( )
第7题：
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的?( )
A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生
B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生
C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，
D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
第8题：
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）
A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
第9题：
第10题：