真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括(  )。

题目
单选题
真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括(  )。
A

预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间

B

预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

C

现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

D

现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

E

现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

参考答案和解析
正确答案: E
解析:
单片机控制的烤瓷炉均设有显示窗、键盘及功能接口,显示窗包括程序显示、温度显示、时间显示、真空显示和故障显示。主要显示现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间及程序内各顺序的经过时间。
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第1题:

真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括

A.预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间

B.预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

C.现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

D.现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

E.现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间


正确答案:D

第2题:

陶瓷真空钎焊时主要的工艺参数就是钎焊温度和保温时间,在焊接通常加热和冷却速度都不超过()K/min。

  • A、20
  • B、15
  • C、25
  • D、30

正确答案:B

第3题:

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有2种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟,高于体瓷烧熔温度的范围是A、31~40℃

B、21~30℃

C、10℃以内

D、11~20℃

E、5℃

在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触,如果接触,可能造成的最严重的后果是A、烤瓷失败

B、烤瓷失败,烤瓷件报废

C、烤瓷件与炉膛内壁发生粘连

D、炉膛报废

E、发热体损坏

真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括A、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间

B、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

C、现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

D、现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

E、现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间


参考答案:问题 1 答案:C


问题 2 答案:C


问题 3 答案:D

第4题:

工业发酵过程的主要控制参数包括().

  • A、温度
  • B、物理参数
  • C、化学参数
  • D、生物参数

正确答案:B,C,D

第5题:

烧结点火参数主要包括点火温度和点火()。

  • A、时间
  • B、速度
  • C、长度

正确答案:A

第6题:

流水参数主要包括工艺参数、空间参数与时间参数类。( )。


答案:对
解析:
流水参数主要包括工艺参数、空间参数与时间参数类。

第7题:

带钢在炉内的固化时间是根据()、涂料种类、涂层厚度的固化温度等参数确定的。


正确答案:带钢厚度

第8题:

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括A、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间

B、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

C、现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

D、现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

E、现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有两种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟,高于体瓷烧熔温度的范围是A、31~40℃

B、21~30℃

C、10℃以内

D、11~20℃

E、5℃

在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触,如果接触,可能造成的最严重的后果是A、烤瓷失败

B、烤瓷失败,烤瓷件报废

C、烤瓷件与炉膛内壁发生粘连

D、炉膛报废

E、发热体损坏

请帮忙给出每个问题的正确答案和分析,谢谢!


问题 1 答案解析:D


问题 2 答案解析:C


问题 3 答案解析:C

第9题:

炉型主要参数包括哪些


正确答案:炉容比(V/T),高宽比(H/D),熔池深度直径比(h/D),炉口直径比(d0/D),帽锥角(θ),出钢口参数(dT,β,LT)

第10题:

烤瓷冠经过烧烤后表面光滑度良好,但出现凹凸不平的现象,其可能原因为()。

  • A、烤瓷炉内污染
  • B、真空不好或没抽真空
  • C、瓷粉内粗细粒度比例不协调
  • D、未达到烧烤软化温度和时间
  • E、不透明瓷层太薄

正确答案:C

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