关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。
第1题：
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。( )
第2题：
根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的?
A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念
D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
第3题：
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）
A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
第4题：
第5题：
第6题：
无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计条例》保护。( )
第7题：
第8题：
关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。
A.该布图设计必须投入商业实施
B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C.布图设计应具有独创性
D.受保护的布图设计必须办理登记手续
第9题：
第10题：
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。